Кришталева куля: ASML — єдина компанія, яка виготовляє машини для літографії EUV, необхідні для виробництва найсучасніших мікросхем у світі. Його генеральний директор Крістоф Фуке каже, що до буму ШІ залишилося 10-15 років, і ми бачимо лише верхівку айсберга. Задоволення попиту залежатиме від кращої оптики, вертикальних дизайнів мікросхем і великої мережі постачальників, яку неможливо швидко розширити. Це робить дорожню карту ASML корисним індикатором того, як далеко може просунутися обладнання штучного інтелекту та як швидко.
Одним із запланованих оновлень є збільшення дзеркальної апертури в системах ультрафіолетової літографії ASML. Більші отвори дозволяють інструментам точніше фокусувати EUV-світло, створювати більш тонкі візерунки та підтримувати вдосконалені виробничі процеси.
У той же час ASML очікує, що більше схем буде побудовано вертикально, а не на плоскій поверхні. Укладання транзисторів та інших схем може дати виробникам чіпів ще один спосіб покращити щільність і продуктивність, коли подальше зменшення стає складнішим. Цей підхід важливий для мікросхем AI, які потребують більшої обчислювальної потужності та швидшого доступу до пам’яті.
«Я думаю, що вплив ШІ на суспільство та промисловість займе від 10 до 15 років», — сказав Фуке. «Ми бачимо лише верхівку айсберга».
Прогноз компанії показує, що штучний інтелект викличе довгострокову потребу в прогресі у виробництві напівпровідників, а не лише короткострокове збільшення попиту на прискорювачі. Цей попит поширюється не тільки на процесори, але й на виробничі інструменти, технології упаковки, пам’ять, мережеве обладнання та системи центрів обробки даних, необхідні для підтримки робочих навантажень ШІ.
ASML є центром цього виробничого ланцюга. Це єдина компанія, яка виробляє EUV-літографічні системи, які виробляють передові чіпи, а провідні ливарні підприємства використовують свої машини для створення процесорів для додатків ШІ.
Технологію важко відтворити. Система EUV коштує до 400 мільйонів доларів і містить понад 100 000 частин. Лазери, дзеркала, вакуумні системи та краплі розплавленого олова працюють разом, щоб генерувати EUV світло та направляти його на кремнієву пластину. Машини розміром приблизно з двоповерховий автобус.
ASML залежить від великої групи спеціалізованих постачальників. Лише для своїх систем EUV компанія співпрацює з приблизно 200 ключовими постачальниками та приблизно 2000 компаніями в ширшому ланцюжку поставок. Zeiss постачає основну оптику, Trumpf — лазери, а VDL — мехатронні системи. ASML придбала виробника лазерів Cymer у 2013 році, щоб забезпечити важливу частину системи EUV.
Цей ланцюг постачання обмежує, наскільки ASML може збільшити виробництво. Компанія не може просто збільшити потужності, витрачаючи більше на складальні підприємства. Для цього потрібні вузькоспеціалізовані компоненти, виробничий досвід і постачальники, які відповідають суворим технічним вимогам.
«Чим більш досконалим ставав наш продукт… тим більшу конкурентну перевагу він отримував», — сказав Фуке. «Ми повинні [develop] набагато швидше за інших».
Nikon і Canon, колись основні конкуренти в літографії, зосередилися на системах глибокого ультрафіолету (DUV). Інструменти DUV все ще широко використовуються у виробництві мікросхем, але EUV необхідний для найсучаснішого виробництва.
Позиція ASML також зробила її технологію центром експортних обмежень. Компанія не може продавати системи EUV в Китай. Ця політика не дозволяє китайським виробникам чіпів купувати сучасне літографічне обладнання, але це також дає Китаю привід розвивати власний ланцюг постачання обладнання.
Фуке назвав Huawei важливим гравцем у роботі Китаю над обладнанням DUV. Китай не близький до виробництва альтернативи EUV, але він працює над створенням можливостей у системах DUV, компонентах, матеріалах та інших частинах виробництва напівпровідників.
ASML також придбала 11% акцій французької компанії штучного інтелекту Mistral. Ці інвестиції пов’язують його з європейським ринком програмного забезпечення штучного інтелекту, хоча головною роллю в індустрії штучного інтелекту залишається апаратне забезпечення.
Для ринку чіпів наступні розробки ASML будуть такими ж важливими, як і поточні системи. Краща оптика EUV і вертикальні конструкції мікросхем можуть допомогти промисловості підвищити ефективність. Але вони також збільшать потребу в спеціалізованому виробничому обладнанні та ланцюгах постачання, які зможуть відповідати попиту.
